System do wytwarzania powłok metodą sputteringu magnetronowego

Dotacja celowa Ministerstwa Edukacji i Nauki przeznaczona na finansowanie realizacji inwestycji związanej z działalnością naukową - zakup aparatury naukowo - badawczej

Tytuł projektu: System do wytwarzania powłok metodą sputteringu magnetronowego

Numer umowy: 7320/IA/SP/2022

Okres realizacji: 2022 - 2023

Wartość projektu: 1.537.500,00 PLN

Wysokość dotacji celowej: 1.537.500,00 PLN

Kierownik projektu: prof. dr hab. Grzegorz Gładyszewski

Opis: 

Aparatura to system do nanoszenia cienkich warstw metodą sputteringu magnetronowego z w pełni zautomatyzowaną kontrolą systemu próżniowego, kontrolą procesu depozycji oraz kontrolą wprowadzania gazów.
System zawierał będzie następujące składniki:
- komorę procesową o pojemności minimum 120 litrów z minimum dwoma oknami podglądu procesu oraz drzwiami do
ładowania preparatów i montażu dodatkowych elementów,
- obudowę systemu wraz z elektroniką oraz zasilaniem systemu,
- procesor sterowania typu PLC,
- pompę turbomolekularną o wydajności min. 1000 litrów/sekunda,
- pompę próżni wstępnej o wydajności min. 20m3/godz.,
- stolik z uchwytem na preparaty do min. 8 cali wraz z układem obracania stolika,
- układ grzania podłoża do temperatury minimum 500°C,
- minimum 3 działa magnetronowe wraz z przysłonami źródeł depozycji,
- minimum 1 źródło zasilania DC o mocy min. 850W,
- minimum 1 źródło zasilania RF o mocy min. 300W z układem automatycznego dopasowania,
- minimum 3 niezależne monitory grubości osadzanych warstw (QCM - quartz crystal monitor),
- system automatycznej kontroli wprowadzania gazów,
- system sterowania układu z niezależnego panelu oraz oprogramowanie do sterowania przy pomocy komputera
zewnętrznego.